Vion Plasma FIB является инструментом, способным проводить точную резку и травление с высокой скоростью. Он обладает возможностью избирательного травления заданных областей образца и химического осаждения материала. Используемый в Vion Plasma FIB источник плазмы обеспечивает 20 – 60 раз более высокие токи пучка, чем традиционные ионные микроскопы с использованием ионов галлия, сохраняя при этом все возможности использования низкого тока пучка. Кроме того, в камере могут быть введены различные газы, оказывающие влияние на взаимодействие пучка с поверхностью образца и вызывающие осаждение материала (изолятора или проводника)..
материаловедение, микроэлектроника, нанотехнологии.
Характеристика |
Значение |
Ионная оптика |
Ионная колонна Sidewinder. |
Разрешение |
Менее 25 нм |
Ускоряющее напряжение |
От 2 кВ до 30 кВ |
Ток зонда |
от 1,5 пА до 1,3 мкА |
Столик: |
|
- Тип |
Эвцентрический столик, моторизованный по 5 осям |
- Ход по осям X и Y |
150 х 150 мм |
- Поворот |
n x 360° |
- Наклон |
-10° …+60° |